光學(xué)功能膜由分層介質(zhì)構(gòu)成,通過界面?zhèn)鞑崿F(xiàn)光束調(diào)控,包括偏振片和相位差補償膜。其中偏振片通過選擇性透過特定偏振方向光波,相位差補償膜則用于修正光程差,二者是液晶顯示器實現(xiàn)顯像功能的關(guān)鍵組件 [1-2]。基礎(chǔ)研究階段(19世紀(jì)初-20世紀(jì)初)德國、美國科學(xué)家建立光學(xué)薄膜基礎(chǔ)理論體系,促成減反射膜等初期產(chǎn)品問世 [1]。2.工業(yè)化應(yīng)用階段(20世紀(jì)30年代-90年代)真空鍍膜技術(shù)突破推動產(chǎn)品實用化,逐步應(yīng)用于攝影鏡頭、顯微鏡等光學(xué)儀器 [1]。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。海門區(qū)放心選光學(xué)膜銷售價格
由于上述原因,鋁膜的應(yīng)用非常***。銀膜在可見光區(qū)和紅外區(qū)都有很高的反射率,而且在傾斜使用時引人的偏振效應(yīng)也**小。但是蒸發(fā)的銀膜用作前表面鏡鍍層時卻因下列兩個原因受到嚴(yán)重限制:它與玻璃基片的豁附性很差;同時易受到硫化物的影響而失去光澤。曾試圖使用蒸發(fā)的一氧化硅或氟化鎂作為保護膜,但由于它們與銀的赫附性很差,沒有獲得成功。所以通常*用于短期作用的場合或作為后表面鏡的鍍層。金膜在紅外區(qū)的反射率很高,它的強度和穩(wěn)定性比銀膜好,所以常用它作為紅外反射鏡。金膜與玻璃基片的附著性較差,為此常用鉻膜作為襯底層。如果在金膜的淀積過程中,輔之以離子束轟擊,則可顯著提高金膜與基片的附著力。如東質(zhì)量光學(xué)膜廠家供應(yīng)光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代,光學(xué)薄膜已用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。
薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā),或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量,傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能,通常為50eV量級。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。薄膜的光學(xué)性質(zhì),如折射率、吸收和激光損傷閾值,主要依賴于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低,則薄膜會含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時,這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3
◆ 光學(xué)薄膜可分為“幾何光學(xué)和物理光學(xué)”,幾何光學(xué)是通過光學(xué)器件表面形成的幾何狀的介質(zhì)膜層,以使改變光路經(jīng)來實現(xiàn)光束的調(diào)整或再分配作用;物理光學(xué)是將自然界中特有的光學(xué)材料元素通過納米處理至所需的光學(xué)器件表面形成的介質(zhì)膜層,透過介質(zhì)膜層的光學(xué)材料元素的特性增強於改變光偏振,透射,反射等功能。◆ 通常光學(xué)薄膜的制備條件要求高而精,制備光學(xué)薄膜分干式制備法和濕式制備法,干式制備法( 含真空鍍膜:蒸發(fā)鍍,磁控濺鍍,離子鍍等)一般用於物理光學(xué)薄膜的制備,濕式制備法(含涂布法, 流延法,熱塑法等)一般用於幾何光學(xué)薄膜的制備。具有以上結(jié)構(gòu)的膜系稱為對稱周期膜系。
反射膜光學(xué)薄膜它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。一般金屬都具有較大的消光系數(shù),當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時,進入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減,使得進入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少,而反射光能增加。消光系數(shù)越大,光振幅衰減越迅速,進入金屬內(nèi)部的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大,光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。通州區(qū)國內(nèi)光學(xué)膜均價
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在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁,在可見光區(qū)常用鋁和銀,在紅外區(qū)常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質(zhì)膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損耗大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。海門區(qū)放心選光學(xué)膜銷售價格
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