中清航科設(shè)備搭載AI參數(shù)推薦引擎，通過(guò)分析晶圓MAP圖自動(dòng)匹配切割速度、進(jìn)給量及冷卻流量。機(jī)器學(xué)習(xí)模型基于10萬(wàn)+案例庫(kù)持續(xù)優(yōu)化，將工藝調(diào)試時(shí)間從48小時(shí)縮短至2小時(shí)，快速響應(yīng)客戶多品種、小批量需求。SiC材料硬度高、脆性大，傳統(tǒng)切割良率不足80%。中清航科采用激光誘導(dǎo)劈裂技術(shù)（LIPS），通過(guò)精確控制激光熱影響區(qū)引發(fā)材料沿晶向解理，切割速度達(dá)200mm/s，崩邊<10μm，滿足新能源汽車功率器件嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。中清航科提供從晶圓貼膜、切割到清洗的全流程自動(dòng)化方案。機(jī)械手聯(lián)動(dòng)精度±5μm，兼容SECS/GEM協(xié)議實(shí)現(xiàn)MES系統(tǒng)對(duì)接。模塊化設(shè)計(jì)支持產(chǎn)能彈性擴(kuò)展，單線UPH（每小時(shí)產(chǎn)能）提升至120片，人力成本降低70%。晶圓切割機(jī)預(yù)防性維護(hù)中清航科定制套餐，設(shè)備壽命延長(zhǎng)5年。上海12英寸半導(dǎo)體晶圓切割刀片

針對(duì)晶圓切割后的表面清潔度要求，中清航科在設(shè)備中集成了在線等離子清洗模塊。切割完成后立即對(duì)晶圓表面進(jìn)行等離子處理，去除殘留的切割碎屑與有機(jī)污染物，清潔度達(dá)到Class10標(biāo)準(zhǔn)。該模塊可與切割流程無(wú)縫銜接，減少晶圓轉(zhuǎn)移過(guò)程中的二次污染風(fēng)險(xiǎn)。中清航科注重晶圓切割設(shè)備的人性化設(shè)計(jì)，操作界面采用直觀的圖形化布局，支持多語(yǔ)言切換與自定義快捷鍵設(shè)置。設(shè)備配備可調(diào)節(jié)高度的操作面板與符合人體工學(xué)的扶手設(shè)計(jì)，減少操作人員長(zhǎng)時(shí)間工作的疲勞感，同時(shí)提供聲光報(bào)警與故障提示，使操作更便捷高效。揚(yáng)州碳化硅半導(dǎo)體晶圓切割劃片晶圓切割培訓(xùn)課程中清航科每月開(kāi)放，已認(rèn)證工程師超800名。

對(duì)于高價(jià)值的晶圓產(chǎn)品，切割過(guò)程中的追溯性尤為重要。中清航科的切割設(shè)備內(nèi)置二維碼追溯系統(tǒng)，每片晶圓進(jìn)入設(shè)備后都會(huì)生成單獨(dú)的二維碼標(biāo)識(shí)，全程記錄切割時(shí)間、操作人員、工藝參數(shù)、檢測(cè)結(jié)果等信息，可通過(guò)掃碼快速查詢?nèi)鞒虜?shù)據(jù)，為質(zhì)量追溯與問(wèn)題分析提供完整依據(jù)。在晶圓切割的邊緣處理方面，中清航科突破傳統(tǒng)工藝限制，開(kāi)發(fā)出激光倒角技術(shù)。可在切割的同時(shí)完成晶圓邊緣的圓弧處理，倒角半徑可精確控制在5-50μm范圍內(nèi)，有效減少邊緣應(yīng)力集中，提高晶圓的機(jī)械強(qiáng)度。該技術(shù)特別適用于需要多次搬運(yùn)與清洗的晶圓加工流程。

中清航科動(dòng)態(tài)線寬控制系統(tǒng)利用實(shí)時(shí)共焦傳感器監(jiān)測(cè)切割槽形貌，通過(guò)AI算法自動(dòng)補(bǔ)償?shù)毒吣p導(dǎo)致的線寬偏差（精度±0.8μm）。該技術(shù)使12英寸晶圓切割道均勻性提升至97%，芯片產(chǎn)出量增加5.3%，年節(jié)省材料成本超$150萬(wàn)。針對(duì)消費(fèi)電子量產(chǎn)需求，中清航科開(kāi)發(fā)多光束并行切割引擎。6路紫外激光（波長(zhǎng)355nm）通過(guò)衍射光學(xué)元件分束，同步切割效率提升400%，UPH突破300片（12英寸），單顆芯片加工成本下降至$0.003。先進(jìn)制程芯片的低k介質(zhì)層易在切割中剝落。中清航科采用局部真空吸附+低溫氮?dú)饽患夹g(shù)，在切割區(qū)形成-30℃微環(huán)境，結(jié)合納米涂層刀具，介質(zhì)層破損率降低至0.01ppm，通過(guò)3nm芯片可靠性驗(yàn)證。晶圓切割粉塵控制選中清航科靜電吸附系統(tǒng)，潔凈度達(dá)標(biāo)Class1。

晶圓切割設(shè)備是用于半導(dǎo)體制造中，將晶圓精確切割成單個(gè)芯片的關(guān)鍵設(shè)備。這類設(shè)備通常要求高精度、高穩(wěn)定性和高效率，以確保切割出的芯片質(zhì)量符合標(biāo)準(zhǔn)。晶圓切割設(shè)備的技術(shù)參數(shù)包括切割能力、空載轉(zhuǎn)速、額定功率等，這些參數(shù)直接影響到設(shè)備的切割效率和切割質(zhì)量。例如，切割能力決定了設(shè)備能處理的晶圓尺寸和厚度，空載轉(zhuǎn)速和額定功率則關(guān)系到設(shè)備的切割速度和穩(wěn)定性。此外，設(shè)備的電源類型、電源電壓等也是重要的考慮因素，它們影響到設(shè)備的兼容性和使用范圍?，F(xiàn)在店內(nèi)正好有切割設(shè)備，具備較高的切割能力（Ф135X6），空載轉(zhuǎn)速達(dá)到2280rpm，電源電壓為380V，適用于多種切割需求。中清航科等離子切割技術(shù)處理氮化鎵晶圓，熱影響區(qū)減少60%。揚(yáng)州碳化硅陶瓷晶圓切割寬度

切割機(jī)預(yù)測(cè)性維護(hù)平臺(tái)中清航科上線，關(guān)鍵部件壽命預(yù)警準(zhǔn)確率99%。上海12英寸半導(dǎo)體晶圓切割刀片

UV膜殘膠導(dǎo)致芯片貼裝失效。中清航科研發(fā)酶解清洗液，在50℃下選擇性分解膠層分子鏈，30秒清理99.9%殘膠且不損傷鋁焊盤(pán)，替代高污染溶劑清洗。針對(duì)3DNAND多層堆疊結(jié)構(gòu)，中清航科采用紅外視覺(jué)穿透定位+自適應(yīng)焦距激光，實(shí)現(xiàn)128層晶圓的同步切割。垂直對(duì)齊精度±1.2μm，層間偏移誤差<0.3μm。中清航科綠色方案整合電絮凝+反滲透技術(shù)，將切割廢水中的硅粉、金屬離子分離回收，凈化水重復(fù)利用率達(dá)98%，符合半導(dǎo)體廠零液體排放（ZLD）標(biāo)準(zhǔn)。上海12英寸半導(dǎo)體晶圓切割刀片