鋁板面蝕刻用:酸、堿都行。(鋁板是兩性材料,既能與酸反應(yīng),又能與堿反應(yīng),所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕,有的用酸性材料腐蝕,一般情況下,以酸性材料腐蝕的為多,堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨,去掉油膩、劃痕,磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣,油墨型號為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細膩,印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進電爐內(nèi)烘干,然后用即時貼封住后面,用膠帶封邊,進入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下:三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量,波美度15~20°之間,鋁板腐蝕時應(yīng)平放,在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣,應(yīng)隨時用毛刷去掉,鋁面上冒出大量泡泡,滓渣隨泡泡浮起。鋁板的腐蝕時間大約在15~20min左右就可完成。一般情況下鋁板厚度不應(yīng)低于1mm,否則一不小心會腐蝕透,影響效果。鋁板的防護材料用香蕉水去掉。腐蝕后的鋁板拋光和銅板一樣,拋光時用香蕉水搓凈余蠟,用另一塊棉花擦磨出亮光,然后噴護光劑防護,其它同銅一樣加工。)剝離液是用于光刻膠剝離用的化學(xué)品。安徽ITO蝕刻液蝕刻液按需定制

故仍舊會有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生;此外,該輸送裝置30用以承載并運送至少一該基板20于該濕式蝕刻機內(nèi)運行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運作,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動機構(gòu)以驅(qū)動該滾輪31轉(zhuǎn)動,以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動。步驟三s3:使用一設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10下方的風(fēng)刀裝置40對該基板20吹出一氣體43,以使該基板20干燥;在本實用新型其一較佳實施例中,該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的該藥液51帶往與相反于該基板20的行進方向,以使該基板20降低該藥液51殘留,其中該氣體43遠離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。步驟四s4:該氣體43經(jīng)由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121宣泄;在本實用新型其一較佳實施例中。BOE蝕刻液蝕刻液銷售廠家蝕刻液可以蝕刻什么樣的金屬;

etchingamount)的相互關(guān)系的圖表。具體實施方式本發(fā)明人確認了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數(shù)值時能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化,從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優(yōu)異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。本發(fā)明中,蝕刻對象膜可以為氮化物膜,保護對象膜可以為氧化物膜。此外,本發(fā)明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。<蝕刻液組合物>具體而言,本發(fā)明可以包含磷酸、添加劑和水,上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。本發(fā)明的上述添加劑的特征在于,使上述添加劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以(參照以下數(shù)學(xué)式)滿足。本發(fā)明中,各添加劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量和添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量的例子示于表3中。此外,由此計算的各添加劑的aeff值和與此有關(guān)的蝕刻程度的例示示于表2中。參照上述結(jié)果,可以確認到上述添加劑的aeff值推薦滿足。
12、伸縮桿;13、圓環(huán)塊;14、連接桿;15、回流管;16、增壓泵;17、一號排液管;18、一號電磁閥;19、抽氣泵;20、排氣管;21、集氣箱;22、二號排液管;23、二號電磁閥;24、傾斜板;25、活動板;26、蓄水箱;27、進水管;28、抽水管;29、三號電磁閥;30、控制面板。具體實施方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。請參閱圖1-5,本發(fā)明提供一種技術(shù)方案:一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,包括裝置主體1,裝置主體1內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板2,分隔板2左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板3,承載板3上端表面放置有電解池4,電解池4內(nèi)部中間位置設(shè)置有隔膜5,裝置主體1上端表面靠近右側(cè)安裝有進液漏斗6,進液漏斗6上設(shè)置有過濾網(wǎng)7,裝置主體1內(nèi)部靠近頂端設(shè)置有進液管8,進液管8左端連接有伸縮管9,伸縮管9下端安裝有噴頭10,裝置主體1上端表面靠近左側(cè)固定安裝有液壓缸11,液壓缸11下端安裝有伸縮桿12。蘇州博洋化學(xué)股份有限公司歡迎新老朋友咨詢。

從蝕刻速度及安全性的觀點來看,推薦為40℃至70℃,更推薦為45℃至55℃。處理時間視對象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化,通常為30秒至120秒左右。實施例然后,對本發(fā)明的實施例與比較例一起進行說明。此外,本發(fā)明并非限定于下述實施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,在下述條件下進行蝕刻試驗及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,剩余部分為離子交換水。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計的濃度。(蝕刻試驗)通過濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜,然后成膜200nm的銅膜,進而通過電鍍銅在該銅膜上形成圖案,將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出。然后,將試樣浸漬在實施例1至實施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進行蝕刻實驗。將實驗結(jié)果示于表1。[表1]像表1所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩(wěn)定性試驗)將實施例1、實施例7、實施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進行所述蝕刻試驗,比較放置前后的蝕刻速度。將比較結(jié)果示于表2。[表2]像表2所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液的保存穩(wěn)定性優(yōu)異,即便在長期保存的情況下也可穩(wěn)定地選擇性地蝕刻鈦。蘇州有哪些公司可以做蝕刻液。無錫ITO蝕刻液蝕刻液供應(yīng)商
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對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例,基于本實用新型中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。實施例一,請參閱圖1-4,本實用新型提供技術(shù)方案:高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,包括裝置主體1、支撐腿2、電源線3和單片機4,裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2,裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3,裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5,裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機4,裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲罐14,裝置主體1的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲罐15,磷酸儲罐15的底部固定連接有攪拌倉23,攪拌倉23的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機13,攪拌倉23的另一側(cè)頂部固定連接有醋酸儲罐16,裝置主體1的頂部中間一側(cè)固定連接有硝酸儲罐17,裝置主體1的頂部中間另一側(cè)固定連接有陰離子表面活性劑儲罐18,陰離子表面活性劑儲罐18的另一側(cè)固定連接有聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐19,裝置主體1的頂部另一側(cè)固定連接有氯化鉀儲罐20。安徽ITO蝕刻液蝕刻液按需定制