HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配，組成無(wú)染料型酸銅光亮劑，HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過(guò)高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧，也會(huì)造成低區(qū)不良，可補(bǔ)加少量M、N或適量添加低區(qū)走位劑如AESS、PN、PNI等來(lái)抵消HP過(guò)量的副作用或者電解處理。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開(kāi)缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過(guò)高鍍層會(huì)發(fā)白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。江蘇夢(mèng)得新材料以創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展，持續(xù)倡導(dǎo)特殊化學(xué)品行業(yè)技術(shù)進(jìn)步。江蘇提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

針對(duì)柔性基材（如 PI 膜）鍍銅，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉帶來(lái)新突破。以 0.003 - 0.006g/L 微量添加，配合 SLP 低應(yīng)力中間體，實(shí)現(xiàn)鍍層延展率提升 50%。其獨(dú)特分子結(jié)構(gòu)可抑制鍍層內(nèi)應(yīng)力，避免彎折過(guò)程中銅層開(kāi)裂?？蛻魧?shí)測(cè)數(shù)據(jù)顯示，鍍層剝離強(qiáng)度≥1.5N/mm，完全滿足折疊屏手機(jī)等應(yīng)用場(chǎng)景需求，為柔性基材鍍銅開(kāi)辟新路徑。在 IC 引線框架鍍銅領(lǐng)域，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現(xiàn)精湛實(shí)力。以 0.002 - 0.005g/L 添加量，實(shí)現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm 的超細(xì)鍍層。與 PNI、MT - 680 等中間體配合，可精細(xì)調(diào)控鍍層電阻率（≤1.72μΩ?cm），滿足高頻信號(hào)傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時(shí)，HP 消耗量低至 0.2g/KAH，適配半導(dǎo)體行業(yè)潔凈車間標(biāo)準(zhǔn)，助力 IC 引線框架鍍銅達(dá)到更高精度。江蘇提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水以客戶需求為導(dǎo)向，江蘇夢(mèng)得新材料有限公司提供從研發(fā)到銷售的一站式化學(xué)解決方案。

在IC引線框架鍍銅領(lǐng)域，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.002-0.005g/L添加量，實(shí)現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm的超細(xì)鍍層。與PNI、MT-680等中間體配合，可調(diào)控鍍層電阻率（≤1.72μΩ·cm），滿足高頻信號(hào)傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時(shí)，HP消耗量低至0.2g/KAH，適配半導(dǎo)體行業(yè)潔凈車間標(biāo)準(zhǔn)。HP醇硫基丙烷磺酸鈉憑借寬泛的兼容性（PH1.5-3.5），可無(wú)縫對(duì)接不同品牌中間體體系。當(dāng)產(chǎn)線切換五金件與線路板鍍銅時(shí)，需調(diào)整HP濃度（0.01→0.005g/L）及匹配走位劑，2小時(shí)內(nèi)即可完成工藝轉(zhuǎn)換。25kg紙箱包裝配備防誤開(kāi)封條，確保頻繁換線時(shí)的原料品質(zhì)穩(wěn)定性！

針對(duì)線路板鍍銅工藝，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.001-0.008g/L的微量添加即可實(shí)現(xiàn)鍍層高光亮度與均勻性。該產(chǎn)品與SH110、SLP、MT-580等中間體科學(xué)配比，形成穩(wěn)定的添加劑體系，有效避免高區(qū)毛刺和燒焦問(wèn)題。與傳統(tǒng)工藝相比，HP在低濃度下仍能維持鍍液活性，降低光劑消耗成本。若鍍液HP含量過(guò)高導(dǎo)致白霧或低區(qū)不良，用戶可通過(guò)添加SLP類走位劑或小電流電解快速恢復(fù)鍍液平衡。包裝提供1kg至25kg多規(guī)格選擇，滿足實(shí)驗(yàn)室測(cè)試與規(guī)?；a(chǎn)需求。

在電化學(xué)領(lǐng)域深耕多年，我們的創(chuàng)新成果已服務(wù)全球多個(gè)行業(yè)。

HP 醇硫基丙烷磺酸鈉外 觀： 白色粉末溶 性： 含 量： 98%以上包 裝： 1kg封口塑料袋；25kg紙箱；25kg防盜紙板桶。參考配方： 五金酸性鍍銅工藝配方-非染料體系、五金酸性鍍銅工藝配方-染料體系、線路板酸銅工藝配方、電鑄硬銅工藝配方電解銅箔工藝配方。HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統(tǒng)SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細(xì)化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發(fā)霧，低區(qū)效果好等優(yōu)點(diǎn)；適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。江蘇夢(mèng)得新材料有限公司在電化學(xué)、新能源化學(xué)、生物化學(xué)領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新。江蘇提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

江蘇夢(mèng)得新材料有限公司的每一款產(chǎn)品都經(jīng)過(guò)嚴(yán)格測(cè)試，確保品質(zhì)、性能。江蘇提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配，組成電鍍硬銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過(guò)高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧，也會(huì)造成低區(qū)不良，而且造成銅層硬度下降，可補(bǔ)加少量N或者適量添加低區(qū)走位劑AESS等來(lái)抵消HP過(guò)量的副作用或小電流電解處理。HP醇硫基丙烷磺酸鈉在電鑄硬銅工藝中表現(xiàn)好，推薦用量0.01-0.03g/L。通過(guò)與N、AESS、MT-580等中間體協(xié)同，可提升銅層硬度與表面致密性。實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)顯示，HP的調(diào)控能避免鍍層白霧和低區(qū)不良問(wèn)題，同時(shí)減少銅層硬度下降風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于復(fù)雜工件，HP的寬泛適應(yīng)性確保高低區(qū)鍍層均勻一致，尤其適用于高精度模具制造。用戶可根據(jù)實(shí)際工況靈活調(diào)整配方，搭配低區(qū)走位劑實(shí)現(xiàn)工藝優(yōu)化。江蘇提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水