光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。 [1鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%，但不可高于98%。無論是對(duì)于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、砷化鎵、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學(xué)元件材料，還是對(duì)于YAG激光采用普通光學(xué)玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學(xué)元件材料，都不能達(dá)到全反射鏡的99%以上要求。不同應(yīng)用時(shí)輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學(xué)鍍膜方法。平板型偏振片工作的波長(zhǎng)區(qū)域比較窄，但它可以做得很大，抗激光強(qiáng)度也比較高，所以經(jīng)常用在強(qiáng)激光系統(tǒng)中。啟東智能光學(xué)膜按需定制

反射膜光學(xué)薄膜它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。啟東智能光學(xué)膜按需定制由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。

**簡(jiǎn)單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí)，在它的兩個(gè)表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定（見光在分界面上的折射和反射）。光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí)，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面；由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機(jī)基板上的硬件布局。兩個(gè)電子槍源位于基板兩邊，周圍是環(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個(gè)圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的優(yōu)先方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn)，同時(shí)繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動(dòng)機(jī)械裝置的中部，驅(qū)動(dòng)軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵?；准訜嵯到y(tǒng)由4個(gè)石英燈組成，真空室的兩邊各兩個(gè)。薄膜的生長(zhǎng)、薄膜的結(jié)構(gòu)以及它們對(duì)薄膜性質(zhì)的影響；

雖然薄膜的光學(xué)現(xiàn)象早在17世紀(jì)就為人們所注意，但是把光學(xué)薄膜作為一個(gè)課題進(jìn)行專門研究卻開始于20世紀(jì)30年代以后，這主要因?yàn)檎婵占夹g(shù)的發(fā)展給各種光學(xué)薄膜的制備提供了先決條件。時(shí)至***，光學(xué)薄膜已得到很大發(fā)展，光學(xué)薄膜的生產(chǎn)已逐步走向系列化、程序化和專業(yè)化，但是，在光學(xué)薄膜的研究中還有不少問題有待進(jìn)一步解決，光學(xué)薄膜現(xiàn)有的水平在不少工作中還不能滿足要求，需要提高。在理論上，不但薄膜的生長(zhǎng)機(jī)理需要搞清，而且薄膜的光學(xué)理論，特別是應(yīng)用于極短波段的光學(xué)理論也有待進(jìn)一步完善和改進(jìn)?？梢允峭该鹘橘|(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。海門區(qū)名優(yōu)光學(xué)膜私人定做

金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，工作的波長(zhǎng)范圍寬；缺點(diǎn)是光損耗大，反射率不可能很高。啟東智能光學(xué)膜按需定制

光學(xué)薄膜的簡(jiǎn)單模型可以用來研究其反射、透射、位相變化和偏振等一般性質(zhì)。如果要研究光學(xué)薄膜的損耗、損傷以及穩(wěn)定性等特殊性質(zhì)，簡(jiǎn)單模型便無能為力了，這時(shí)必須考慮薄膜的結(jié)晶構(gòu)造、體內(nèi)結(jié)構(gòu)和表面狀態(tài)，薄膜的各向異性和不均勻性，薄膜的化學(xué)成分、表面污染和界面擴(kuò)散等等?？紤]到這些因素后，那就不僅要考慮它的光學(xué)性質(zhì)，還要研究它的物理性質(zhì)、化學(xué)性質(zhì)、力學(xué)性質(zhì)和表面性質(zhì)，以及各種性質(zhì)之間的滲透和影響。因此光學(xué)薄膜的研究就躍出光學(xué)范疇而成為物理、化學(xué)、固體和表面物理的邊緣學(xué)科。啟東智能光學(xué)膜按需定制

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