晶圓切割設(shè)備是用于半導(dǎo)體制造中,將晶圓精確切割成單個(gè)芯片的關(guān)鍵設(shè)備。這類(lèi)設(shè)備通常要求高精度、高穩(wěn)定性和高效率,以確保切割出的芯片質(zhì)量符合標(biāo)準(zhǔn)。晶圓切割設(shè)備的技術(shù)參數(shù)包括切割能力、空載轉(zhuǎn)速、額定功率等,這些參數(shù)直接影響到設(shè)備的切割效率和切割質(zhì)量。例如,切割能力決定了設(shè)備能處理的晶圓尺寸和厚度,空載轉(zhuǎn)速和額定功率則關(guān)系到設(shè)備的切割速度和穩(wěn)定性。此外,設(shè)備的電源類(lèi)型、電源電壓等也是重要的考慮因素,它們影響到設(shè)備的兼容性和使用范圍?,F(xiàn)在店內(nèi)正好有切割設(shè)備,具備較高的切割能力(Ф135X6),空載轉(zhuǎn)速達(dá)到2280rpm,電源電壓為380V,適用于多種切割需求。12英寸晶圓切割中清航科解決方案突破產(chǎn)能瓶頸,良率99.3%。碳化硅線(xiàn)晶圓切割藍(lán)膜

隨著Chiplet技術(shù)的興起,晶圓切割需要更高的位置精度以保證后續(xù)的異構(gòu)集成。中清航科開(kāi)發(fā)的納米級(jí)定位切割系統(tǒng),采用氣浮導(dǎo)軌與光柵尺閉環(huán)控制,定位精度達(dá)到±0.1μm,配合雙頻激光干涉儀進(jìn)行實(shí)時(shí)校準(zhǔn),確保切割道位置與設(shè)計(jì)圖紙的偏差不超過(guò)0.5μm,為Chiplet的高精度互聯(lián)奠定基礎(chǔ)。中清航科深諳半導(dǎo)體設(shè)備的定制化需求,可為客戶(hù)提供從工藝驗(yàn)證到設(shè)備交付的全流程服務(wù)。其技術(shù)團(tuán)隊(duì)會(huì)深入了解客戶(hù)的晶圓規(guī)格、材料特性與產(chǎn)能要求,定制專(zhuān)屬切割方案,如針對(duì)特殊異形Die的切割路徑優(yōu)化、大尺寸晶圓的分片切割策略等,已成功為多家頭部半導(dǎo)體企業(yè)完成定制化項(xiàng)目交付。鎮(zhèn)江碳化硅半導(dǎo)體晶圓切割劃片廠(chǎng)中清航科推出切割廢料回收服務(wù),晶圓利用率提升至99.1%。

為幫助客戶(hù)應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)人才短缺問(wèn)題,中清航科推出“設(shè)備+培訓(xùn)”打包服務(wù)。購(gòu)買(mǎi)設(shè)備的客戶(hù)可獲得技術(shù)培訓(xùn)名額,培訓(xùn)內(nèi)容涵蓋設(shè)備操作、工藝調(diào)試、故障排除等,培訓(xùn)結(jié)束后頒發(fā)認(rèn)證證書(shū)。同時(shí)提供在線(xiàn)技術(shù)支持平臺(tái),隨時(shí)解答客戶(hù)在生產(chǎn)中遇到的技術(shù)問(wèn)題。隨著半導(dǎo)體器件向微型化、集成化發(fā)展,晶圓切割的精度要求將持續(xù)提升。中清航科已啟動(dòng)亞微米級(jí)切割技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目,計(jì)劃通過(guò)引入更高精度的運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)與更短波長(zhǎng)的激光源,實(shí)現(xiàn)500nm以?xún)?nèi)的切割精度,為量子芯片、生物傳感器等前沿領(lǐng)域的發(fā)展提供關(guān)鍵制造設(shè)備支持。
中清航科在切割頭集成聲波傳感器,通過(guò)頻譜分析實(shí)時(shí)識(shí)別崩邊、裂紋等缺陷(靈敏度1μm)。異常事件觸發(fā)自動(dòng)停機(jī),避免批量損失,每年減少?gòu)U片成本$2.5M。為提升CIS有效感光面積,中清航科將切割道壓縮至8μm:激光隱形切割(SD)配合智能擴(kuò)膜系統(tǒng),崩邊<3μm,使1/1.28英寸傳感器邊框縮減40%,暗電流降低至0.12nA/cm2。中清航科金剛石刀片再生技術(shù):通過(guò)等離子體刻蝕去除表層磨損層,重新鍍覆納米金剛石顆粒。再生刀片壽命達(dá)新品90%,成本降低65%,已服務(wù)全球1200家客戶(hù)。中清航科聯(lián)合高校成立切割技術(shù)研究院,突破納米級(jí)切割瓶頸。

晶圓切割的主要目標(biāo)之一是從每片晶圓中獲得高產(chǎn)量的、功能完整且無(wú)損的芯片。產(chǎn)量是半導(dǎo)體制造中的一個(gè)關(guān)鍵性能指標(biāo),因?yàn)樗苯佑绊戨娮悠骷a(chǎn)的成本和效率。更高的產(chǎn)量意味著每個(gè)芯片的成本更造能力更大,制造商更能滿(mǎn)足不斷增長(zhǎng)的電子器件需求。晶圓切割直接影響到包含這些分離芯片的電子器件的整體性能。切割過(guò)程的精度和準(zhǔn)確性需要確保每個(gè)芯片按照設(shè)計(jì)規(guī)格分離,尺寸和對(duì)準(zhǔn)的變化小。這種精度對(duì)于在終設(shè)備中實(shí)現(xiàn)比較好電氣性能、熱管理和機(jī)械穩(wěn)定性至關(guān)重要。中清航科切割工藝白皮書(shū)下載量超10萬(wàn)次,成行業(yè)參考標(biāo)準(zhǔn)?;窗瞫ic晶圓切割廠(chǎng)
晶圓切割機(jī)預(yù)防性維護(hù)中清航科定制套餐,設(shè)備壽命延長(zhǎng)5年。碳化硅線(xiàn)晶圓切割藍(lán)膜
在半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化替代的浪潮中,中清航科始終堅(jiān)持自主創(chuàng)新,中心技術(shù)100%自主可控。其晶圓切割設(shè)備的關(guān)鍵部件如激光發(fā)生器、精密導(dǎo)軌、控制系統(tǒng)等均實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化量產(chǎn),不僅擺脫對(duì)進(jìn)口部件的依賴(lài),還將設(shè)備交付周期縮短至8周以?xún)?nèi),較進(jìn)口設(shè)備縮短50%,為客戶(hù)搶占市場(chǎng)先機(jī)提供有力支持。展望未來(lái),隨著3nm及更先進(jìn)制程的突破,晶圓切割將面臨更小尺寸、更高精度的挑戰(zhàn)。中清航科已啟動(dòng)下一代原子級(jí)精度切割技術(shù)的研發(fā),計(jì)劃通過(guò)量子點(diǎn)標(biāo)記與納米操控技術(shù),實(shí)現(xiàn)10nm以下的切割精度,同時(shí)布局晶圓-封裝一體化工藝,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展提供前瞻性的技術(shù)解決方案,與全球客戶(hù)共同邁向更微觀(guān)的制造領(lǐng)域。碳化硅線(xiàn)晶圓切割藍(lán)膜