面向磁傳感器制造，中清航科開發(fā)超導(dǎo)磁懸浮切割臺(tái)。晶圓在強(qiáng)磁場(chǎng)（0.5T）下懸浮，消除機(jī)械接觸應(yīng)力，切割后磁疇結(jié)構(gòu)畸變率<0.3%，靈敏度波動(dòng)控制在±0.5%。中清航科電化學(xué)回收裝置從切割廢水中提取金/銅/錫等金屬，純度達(dá)99.95%。單條產(chǎn)線年回收貴金屬價(jià)值超$80萬(wàn)，回收水符合SEMIF78標(biāo)準(zhǔn)，實(shí)現(xiàn)零廢液排放。針對(duì)HJT電池脆弱電極層，中清航科采用熱激光控制技術(shù)（LCT）。紅外激光精確加熱切割區(qū)至200℃，降低材料脆性，電池效率損失<0.1%，碎片率控制在0.2%以內(nèi)。中清航科等離子切割技術(shù)處理氮化鎵晶圓，熱影響區(qū)減少60%。麗水半導(dǎo)體晶圓切割劃片

中清航科動(dòng)態(tài)線寬控制系統(tǒng)利用實(shí)時(shí)共焦傳感器監(jiān)測(cè)切割槽形貌，通過(guò)AI算法自動(dòng)補(bǔ)償?shù)毒吣p導(dǎo)致的線寬偏差（精度±0.8μm）。該技術(shù)使12英寸晶圓切割道均勻性提升至97%，芯片產(chǎn)出量增加5.3%，年節(jié)省材料成本超$150萬(wàn)。針對(duì)消費(fèi)電子量產(chǎn)需求，中清航科開發(fā)多光束并行切割引擎。6路紫外激光（波長(zhǎng)355nm）通過(guò)衍射光學(xué)元件分束，同步切割效率提升400%，UPH突破300片（12英寸），單顆芯片加工成本下降至$0.003。先進(jìn)制程芯片的低k介質(zhì)層易在切割中剝落。中清航科采用局部真空吸附+低溫氮?dú)饽患夹g(shù)，在切割區(qū)形成-30℃微環(huán)境，結(jié)合納米涂層刀具，介質(zhì)層破損率降低至0.01ppm，通過(guò)3nm芯片可靠性驗(yàn)證。鎮(zhèn)江晶圓切割劃片廠中清航科切割機(jī)遠(yuǎn)程診斷系統(tǒng)，故障排除時(shí)間縮短70%。

在晶圓切割的質(zhì)量檢測(cè)方面，中清航科引入了三維形貌檢測(cè)技術(shù)。通過(guò)高分辨率confocal顯微鏡對(duì)切割面進(jìn)行三維掃描，生成精確的表面粗糙度與輪廓數(shù)據(jù)，粗糙度測(cè)量精度可達(dá)0.1nm，為工藝優(yōu)化提供量化依據(jù)。該檢測(cè)結(jié)果可直接與客戶的質(zhì)量系統(tǒng)對(duì)接，實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的無(wú)縫流轉(zhuǎn)。針對(duì)晶圓切割過(guò)程中的熱變形問題，中清航科開發(fā)了恒溫控制切割艙。通過(guò)高精度溫度傳感器與PID溫控系統(tǒng)，將切割艙內(nèi)的溫度波動(dòng)控制在±0.1℃以內(nèi)，同時(shí)采用熱誤差補(bǔ)償算法，實(shí)時(shí)修正溫度變化引起的機(jī)械變形，確保在不同環(huán)境溫度下的切割精度穩(wěn)定一致。

在晶圓切割設(shè)備的自動(dòng)化升級(jí)浪潮中，中清航科走在行業(yè)前列。其新推出的智能切割單元，可與前端光刻設(shè)備、后端封裝設(shè)備實(shí)現(xiàn)無(wú)縫對(duì)接，通過(guò)SECS/GEM協(xié)議完成數(shù)據(jù)交互，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體生產(chǎn)全流程的自動(dòng)化閉環(huán)。該單元還具備自我診斷功能，能提前預(yù)警潛在故障，將非計(jì)劃停機(jī)時(shí)間減少60%，為大規(guī)模生產(chǎn)提供堅(jiān)實(shí)保障。對(duì)于小尺寸晶圓的切割，傳統(tǒng)設(shè)備往往面臨定位難、效率低的問題。中清航科專門設(shè)計(jì)了針對(duì)2-6英寸小晶圓的切割工作站，采用多工位旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，可同時(shí)處理8片小晶圓，切割效率較單工位設(shè)備提升4倍。配合特制的彈性吸盤，能有效避免小晶圓吸附時(shí)的損傷，特別適合MEMS傳感器、射頻芯片等小批量高精度產(chǎn)品的生產(chǎn)。針對(duì)碳化硅晶圓，中清航科激光改質(zhì)切割技術(shù)突破硬度限制。

中清航科的晶圓切割設(shè)備通過(guò)了多項(xiàng)國(guó)際認(rèn)證，包括CE、FCC、UL等，符合全球主要半導(dǎo)體市場(chǎng)的準(zhǔn)入標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備設(shè)計(jì)嚴(yán)格遵循國(guó)際安全規(guī)范與電磁兼容性要求，可直接出口至歐美、日韓等地區(qū)，為客戶拓展國(guó)際市場(chǎng)提供設(shè)備保障。在晶圓切割的刀具校準(zhǔn)方面，中清航科創(chuàng)新采用激光對(duì)刀技術(shù)。通過(guò)高精度激光束掃描刀具輪廓，自動(dòng)測(cè)量刀具直徑、刃口角度等參數(shù)，并與標(biāo)準(zhǔn)值對(duì)比，自動(dòng)計(jì)算補(bǔ)償值，整個(gè)校準(zhǔn)過(guò)程只需3分鐘，較傳統(tǒng)機(jī)械對(duì)刀方式提升效率80%，且校準(zhǔn)精度更高。中清航科切割機(jī)節(jié)能模式降低功耗40%，年省電費(fèi)超15萬(wàn)元。衢州碳化硅半導(dǎo)體晶圓切割企業(yè)

中清航科推出切割工藝保險(xiǎn)服務(wù)，承保因切割導(dǎo)致的晶圓損失。麗水半導(dǎo)體晶圓切割劃片

為提升芯片產(chǎn)出量，中清航科通過(guò)刀片動(dòng)態(tài)平衡控制+激光輔助定位，將切割道寬度從50μm壓縮至15μm。導(dǎo)槽設(shè)計(jì)減少材料浪費(fèi)，使12英寸晶圓有效芯片數(shù)增加18%，明顯降低單顆芯片制造成本。切割產(chǎn)生的亞微米級(jí)粉塵是電路短路的元兇。中清航科集成靜電吸附除塵裝置，在切割點(diǎn)10mm范圍內(nèi)形成負(fù)壓場(chǎng)，配合離子風(fēng)刀清理殘留顆粒，潔凈度達(dá)Class1標(biāo)準(zhǔn)（>0.3μm顆粒<1個(gè)/立方英尺）。中清航科設(shè)備內(nèi)置AOI（自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)）模塊，采用多光譜成像技術(shù)實(shí)時(shí)識(shí)別崩邊、微裂紋等缺陷。AI算法在0.5秒內(nèi)完成芯片級(jí)判定，不良品自動(dòng)標(biāo)記，避免后續(xù)封裝資源浪費(fèi)，每年可為客戶節(jié)省品質(zhì)成本超百萬(wàn)。麗水半導(dǎo)體晶圓切割劃片